泰兴市和宸晶体科技有限公司

销售、技术、售后

专注蓝宝石光学窗口片、蓝宝石保护窗口片、石英光学产品、红外光学产品等生产和销售。

高新技术企业

科技型中小企业

获取电子画册

加我微信

告诉我你的需求，剩下的交给我们！

光学石英产品

首页》光学石英

公司信息.xlsx

11.46 KB

下载
厚度计算表.xlsx

985.8 KB

下载
光学蓝宝石简明指南.pdf

192.98 KB

下载
蓝宝石材料参数表.pdf

561.2 KB

下载
石英材料参数表.pdf

346.94 KB

下载
玻璃牌号对照表.xlsx

26.37 KB

下载
康宁熔石英产品手册.pdf

863.17 KB

下载
公司画册.pdf

1.19 M

下载
厚度计算表

985.8 KB

下载

石英和玻璃的区别

密度（ g/cm3）	2.201
熔点（℃）	1600
介电常数	3.7@20 °C: 0 ...106 Hz
热膨胀系数（1/℃）	5.1 × 10 ^–7@0 ...100 °C
弹性模量（20°C，MPa）	7.25 x 10^4
抗压强度（估值）（MPa）	1150
抗拉强度（估值）（MPa）	50
抗弯强度（估值）（MPa）	67
knoop硬度(MPa)	5800...6200
莫氏硬度	5.5 -6.5
泊松比	0.17
扭转弹性模量（MPa）	3.0 x 10^4

特性	石英	玻璃
成分	纯SiO2（＞99.9%）	SiO2+Na2O+CaO等
热膨胀系数	极低（≈0.5×10⁻⁶/°C）	较高（≈9×10⁻⁶/°C）
耐高温性	1600°C以上	约500°C软化
紫外透光率	优异（深紫外波段）	较差
化学稳定性	耐强酸（除HF）	易被酸碱腐蚀

波长范围	窗口材料
180 nm - 8.0 μm	氟化钙CaF2
185 nm - 2.1 μm	UV熔融石英
200 nm - 5.0 μm	蓝宝石
200 nm - 6.0 μm	氟化镁MgF2
600 nm - 16 µm	硒化锌ZnSe
1.9 - 16 μm	锗单晶Ge
2 - 5 μm	氟化钡BaF2

默认排序

总价

￥ - ￥确定

确定

光学透镜

<span style="color: rgb(64, 64, 64); font-family: DeepSeek-CJK-patch, Inter, system-ui, -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, "Noto Sans", Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", Oxygen, "Open Sans", sans-serif; font-size: 16.002px; text-wrap-mode: wrap;">光学透镜是一种通过折射改变光线传播方向的光学元件，广泛应用于成像、聚焦、准直及光路调整等领域。其核心功能是通过曲面形状（如凸面或凹面）控制光线的会聚或发散，从而实现光能分布调控和像的形成。

￥0.00

￥0.00

了解详情
光学窗口

<span style="color: rgb(64, 64, 64); font-family: DeepSeek-CJK-patch, Inter, system-ui, -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, "Noto Sans", Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", Oxygen, "Open Sans", sans-serif; font-size: 16.002px; text-wrap-mode: wrap;">光学窗口是光学系统中的关键元件，主要用于保护内部光学器件（如传感器、探测器、镜头等）免受外界环境（如灰尘、湿气、机械冲击等）的影响，同时允许特定波长的光高效通过。

￥0.00

￥0.00

了解详情
VAD合成石英HOSQ-032

以四氟化硅为原料，采用VAD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，吸收系数低，光学均匀性好，可用于IC光掩膜基板、工业激光聚焦准直镜、激光光纤端帽、高能激光光学元件的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情
OVD合成石英HOSQ-031

以四氟化硅为原料，采用OVD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，吸收系数低，光学均匀性好，可用于IC光掩膜基板、工业激光聚焦准直镜、激光光纤端帽、高能激光光学元件的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情
VAD合成石英HOSQ-012

以四氟化硅或有机硅为原料，采用VADD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情
OVD合成石英HOSQ-011

以四氟化硅或有机硅为原料，采用OVD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情
CVD合成石英HOSQ-022

以四氟化硅为原料，采用CVD法制造，具有大尺寸、低杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、高能激光光学元件和半导体石英器件的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情
CVD合成石英HOSQ-021

以四氟化硅为原料，采用CVD法制造，具有大尺寸、低杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、高能激光光学元件和半导体石英器件的制造。

￥1500.00

￥1800.00

了解详情

石英透过曲线（镀膜前）

理化性质

波长范围	牌号及类型
185 nm - 2500nm	JGS1远紫外光学石英
220nm - 2500nm	JGS2紫外光学石英
260 nm -3500nm	JGS3红外光学石英
185nm - 2100nm	康宁7980紫外石英
300 nm - 3500nm	‍康宁7979红外石英


250nm-2500nm	GE-124紫外石英

窗口材料快速指南

常用石英牌号及对应波段

熔石英参数表点击下载

康宁熔融石英根据关键属性会进一步细分为不同的等级，如工业级、标准级等，应根据实际使用需求选择对应的材料。

光学石英产品

常用光学石英生产方法分为熔炼石英和合成石英两种：

熔炼石英是一种由高纯度二氧化硅（SiO₂）经高温熔融后快速冷却形成的非晶态（玻璃态）材料，因此是各向同性的，可应用于光伏器件、普通可视窗口及零件的制造。
合成石英是以四氟化硅或有机硅为原料，采用气相沉积法制造（也有可能是再次熔融）的石英产品，主要工艺有CVD法、VAD法和OVD法，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可应用于IC光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜、高能激光光学元件及半导体石英器件的制造。