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  • VAD合成石英HOSQ-012
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  • VAD合成石英HOSQ-012

    以四氟化硅或有机硅为原料，采用VADD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜的制造。

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商品描述

以四氟化硅或有机硅为原料，采用VADD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜的制造。

产品指标


型号

金属杂质

（ppb））

羟基

（ppm）

均匀性条纹

应力双折射

（nm/cm）

尺寸

（mm）

波段

（nm）

HOSQ-012＜200＜200

I级：＜5×10-6

II级：＜10×10-6

III级：＜20×10-6

3D＜5

D100

D300

190-2500

备注：可根据使用尺寸定制生产方案

金属杂质含量


单位：ppb

AlBaCaCrCoCuFeKLiMgMn
NiNaTi含金量
＜15＜5＜20＜2＜5＜5＜5＜15＜5＜5＜5＜5＜15＜5＜200


光学非均匀性


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  • VAD合成石英HOSQ-032

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    以四氟化硅或有机硅为原料，采用OVD法制造，具有低羟基、低金属杂质含量等特性，光学均匀性好，可用于LCD光掩膜基板、工业激光场镜、聚焦准直镜、激光光纤端帽、保护镜的制造。

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